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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • LD-2L光催化劑實(shí)驗(yàn)室納米分散機(jī)

    光催化劑實(shí)驗(yàn)室納米分散機(jī)一般需要將二氧化鈦分散到液體基料中,形成懸浮液,需要對光催化劑體系進(jìn)行研磨分散,使懸浮液(或乳化液)體系中的分散物微?;?、均勻化的處理過程,這種處理同時(shí)起降低分散物尺度和提高分散物分布均勻性的作用,使得光催化劑產(chǎn)品更穩(wěn)定。

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  • LD-2L吸附劑實(shí)驗(yàn)室高剪切分散機(jī)

    吸附劑實(shí)驗(yàn)室高剪切分散機(jī)采用先進(jìn)的零部件,并傾盡全力將其優(yōu)化組合,制成各方面都卓然出眾的藝術(shù)級(jí)工業(yè)化產(chǎn)品。這需要多年的經(jīng)驗(yàn)積累,以及技術(shù)沉淀,更是將經(jīng)驗(yàn)和技術(shù)轉(zhuǎn)化為創(chuàng)新的能力。

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  • XMD膨脹石墨NMP剪切剝離分散機(jī)

    膨脹石墨NMP剪切剝離分散機(jī)透過腔體里的定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地研磨、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎的效果。

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  • XLC黃原膠粉液混合分散機(jī)

    黃原膠粉液混合分散機(jī)在一臺(tái)設(shè)備上實(shí)行三個(gè)工藝步驟:混合/均質(zhì)/分散,無研磨,*連續(xù)的運(yùn)行模式,潤濕粉體,防止結(jié)團(tuán)結(jié)快的形成,大大縮短生產(chǎn)時(shí)間。

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  • XMD有機(jī)膨潤土提純高剪切分散機(jī)

    有機(jī)膨潤土提純高剪切分散機(jī)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

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  • SA25氧化鋯實(shí)驗(yàn)室納米分散機(jī)

    氧化鋯實(shí)驗(yàn)室納米分散機(jī)可選配多種工作頭,轉(zhuǎn)速高可至28000rpm,線速度高達(dá)27m/s。集靈巧、方便、高擴(kuò)展性于一體,整機(jī)模塊結(jié)構(gòu),操作方便,可長時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn),輕松滿足多種高要求的分散實(shí)驗(yàn)。且希德提供中試及生產(chǎn)型分散、研磨、均質(zhì)、混合、乳化等設(shè)備

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  • LD-2L防水涂料高剪切納米分散機(jī)

    防水涂料高剪切納米分散機(jī)高效、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相(液體、固體、氣體)進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程。

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  • XMD超高速研磨均質(zhì)納米分散機(jī)

    超高速研磨均質(zhì)納米分散機(jī)定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求

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